Ob strengere Sauberkeitsspezifikationen bei Hightech-Bauteilen oder vormontierte Komponenten, beispielsweise mit elektronischen Anbauteilen: bei vielen High Purity-Anwendungen im Reinraum lassen sich die gestiegenen Reinheitsanforderungen mit bisher eingesetzten Reinigungsverfahren nicht mehr erfüllen. In diesen Fällen ermöglicht die effiziente quattroClean-Schneestrahltechnologie von Acp eine bedarfsgerechte und trockene Reinigung mit klimaneutralem Kohlendioxid.
Durch das Zusammenspiel der vier Wirkmechanismen (thermischer, mechanischer, Lösemittel- und Sublimationseffekt) des Verfahrens werden partikuläre Verunreinigungen bis in den Submikrometer-Bereich sowie filmische Kontaminationen prozesssicher und reproduzierbar entfernt. Dabei gewährleistet eine lückenlose Prozessüberwachung und ‑kontrolle, dass jedes Teil mit den validierten Prozessparametern gereinigt wird. Die Ausführung der Reinigungssysteme erfolgt angepasst an die jeweilige Reinraumklasse.
Standort: Halle 4, Stand B04
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