Eine hochwirksame Filtration schafft die Voraussetzung für einen effizienten und langlebigen Betrieb in unterschiedlichsten Anwendungen. Lösungen von Hengst Filtration erfüllen diese Anforderungen selbst in anspruchsvollen Umgebungen. Einblicke in die vielfältige Welt der Filtrationssysteme und Filterelemente gibt das Unternehmen auf der FILTECH vom 8. bis 10. März 2022 in Köln.
Gegen eine Absicherung hochwertiger Filtersysteme sprechen meist zusätzliche Kosten für Erkennungssysteme wie NFC oder RFID. Zumal solche Systeme sich leicht kopieren lassen. Dem Spezialisten für Filtertechnik ist es, mithilfe von Tailorlux, gelungen, nun einen smarten Filter für ein Messexponat zu entwickeln. Die Lösung besticht durch Ihre kosteneffiziente wie unsichtbare Markierung im Material des Filters. Die chemische Markierungslösung wird damit zu einem Teil des Produktes und kann mit einem innovativen Auslesemechanismus einfach in elektronische Geräte implementiert werden. Der smarte Plagiatsschutz in Form einer Produkt-DNA hat sich bereits in vielen industriellen Anwendungen bewährt und kam bereits in Baumaschinen und Textilmaschinen zum Einsatz.
Effiziente Filtrationstechnik
Die Messebesucher erwarten am Hengst-Stand noch viele weitere Beispiele für eine effiziente, zukunftsweisende Filtrationstechnik. Das Unternehmen hat sein Produktportfolio in den vergangenen Jahren sukzessive erweitert, bis hin zu neuen Sortimentsgruppen für Luftreiniger und Wohnraumbelüftungsanlagen. Die kontinuierlichen eigenen Aktivitäten im Bereich Forschung und Produktentwicklung tragen ebenso dazu wie auch die Übernahmen renommierter Filtrationsspezialisten, darunter zuletzt die Hydraulik-Filtrationssparte der Bosch Rexroth. Abgerundet werden die umfassenden Einblicke in neue Technologien und Fitrationssysteme am Hengst-Stand mit dem Zukunftsthema Smart Filtration. So kann RFID-Technik bereits heute zur Informationsübermittlung und zur Unterstützung einer vorausschauenden Wartung dienen. Ein weiteres Beispiel sind unsichtbare Marker, die eine einfache und sichere Plagiatsschutzerkennung ermöglichen.
Standort: Halle 7, Stand K13
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